Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы

Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой (англ. plasma-enhanced chemical vapor deposition) — процесс химического осаждения тонких плёнок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы[1].

Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы

Описание

Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приёмов возбуждения плазмы в реакционном объёме и управление её параметрами позволяет:

- интенсифицировать процессы роста покрытий;

- проводить осаждение аморфных и поликристаллических плёнок при значительно более низких температурах подложки;

- более качественно управлять процессами формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичными процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанными на термическом разложении реакционного газа[1].

Этим методом успешно получают алмазоподобные покрытия.

См. также

Примечания
  1. Журавлёва Наталья Геннадиевна, Наймушина Дарья Анатольевна. Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, «Словарь нанотехнологичных терминов». Роснано. Дата обращения: 21 августа 2012. Архивировано 1 ноября 2012 года.

Литература
  • Киреев В., Столяров А. Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы. — М.: Техносфера, 2006. — 192 с. — ISBN 5-94836-039-3.
  • НТЦ Нанотехнология, 2006. — www.nano.org.ua
  • Передовые плазменные технологии // Intech, 2008. — www.plasmasystem.ru
  • Д.Толливер, Р.Новицки, Д.Хесс и др.; Под ред. Н.Айнспрука, Д.Брауна. Плазменная технология в производстве СБИС. — М.: Мир, 1987. — 469 с.
  • Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. — М.: Энергоатомиздат, 1989. — 328 с.
  • Ивановский Г. Ф., Петров В. И. Ионно-плазменная обработка материалов. — М.: Радио и связь, 1986. — 232 с.
  • Попов В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. — М.: Высш. шк., 1988. — 255 с. — ISBN 5-06-001480-0.
  • Виноградов М.И., Маишев Ю.П. Вакуумные процессы и оборудование ионно - и электронно-лучевой технологии. — М.: Машиностроение, 1989. — 56 с. — ISBN 5-217-00726-5.
  • Соснин Н. А., Ермаков С. А., Тополянский П. А. Плазменные технологии. Руководство для инженеров. Изд-во Политехнического ун-та. СПб.: 2013. - 406 с.
This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.