Гидроксид тетраметиламмония
Гидрокси́д тетраметиламмо́ния (TMAH, TMAOH — от англ. tetramethylammonium hydroxide) это четвертичное аммонийное соединение с молекулярной формулой (CH3)4NOH, сильное органическое основание. Он используется как анизотропный травитель для кремния. Также, слабые растворы, используются для проявления фоторезиста в процессе фотолитографии. Поскольку он является катализатором фазового перехода, он очень эффективен для удаления фоторезиста. Также используется как поверхностно-активное вещество при синтезе ферромагнитных жидкостей, чтобы препятствовать слипанию её частиц.
| Гидроксид тетраметиламмония | |
|---|---|
 | |
| Общие | |
| Систематическое наименование |
Тетраметиловый гидроксид аммония |
| Сокращения | TMAH, TMAOH |
| Хим. формула | (CH3)4NOH |
| Классификация | |
| Рег. номер CAS | 75-59-2 |
| PubChem | 60966 |
| Рег. номер EINECS | 200-882-9 |
| SMILES | |
| InChI | |
| ChemSpider | 54928 |
| Безопасность | |
| NFPA 704 | |
| Приведены данные для стандартных условий (25 °C, 100 кПа), если не указано иное. | |
Токсичность
Раствор TMAH является сильным основанием. Ионы тетраметиламмония могут повреждать нервы и мышцы, приводя к затруднению дыхания и, возможно, смерти вскоре после контакта даже с небольшим количеством вещества. Чистый TMAH практически не имеет запаха, загрязнённый триметиламином (который применяется в производстве четвертичных аммониевых солей) имеет запах мертвой рыбы.
Анизотропный травитель
TMAH относится к семейству растворов четвертичных гидроксидов аммония и широко используется для анизотропного травления кремния. Типичная температура травления 70°-90 °C, типичная концентрация 5 %-25 % TMAH по массе в водном растворе. Скорость травления кремния увеличивается с ростом температуры и падает с ростом концентрации TMAH. Грубость травления кремниевой поверхности увеличивается с ростом концентрации TMAH, при концентрации 20 % получается гладкая поверхность травления.
Распространённые материалы для масок при длительном травлении в TMAH включают в себя диоксид кремния (химически осаждённый из газовой фазы при пониженном давлении ) и нитрид кремния. Нитрид кремния имеет незначительную скорость травления в TMAH; скорость травления в TMAH для диоксида кремния зависит от качества плёнки, но в целом имеет порядок 0.1 нм/минуту.