Дифракция быстрых электронов

Дифракция быстрых электронов сокр., ДБЭ (англ. reflection high-energy electron diffraction сокр., RHEED) — метод исследования структуры поверхности твердых тел, основанный на анализе картин дифракции электронов с энергией 5-100 кэВ, упруго рассеянных от исследуемой поверхности под скользящими углами.

[1]

Описание

Чувствительность к структуре поверхности в ДБЭ достигается тем, что первичный пучок падает на исследуемую поверхность под малым скользящим углом порядка 1-5°, а также тем, что детектируются только дифракционные пучки, выходящие под малыми углами к поверхности. В результате на всем своём пути свободного пробега электроны остаются в тонкой приповерхностной области. Например, электроны с энергией 50-100 кэВ, имея длину свободного пробега порядка 100 нм, при угле падения порядка 1° проникают на глубину не более 1 нм.

Для изучения поверхности методом ДБЭ обязательно наличие экспериментальной аппаратуры, в которой пучок высокоэнергетических электронов из электронной пушки попадает на поверхность образца под скользящим углом, а продифрагировавшие пучки электронов формируют картину ДБЭ на флуоресцентном экране. В качестве примера картина ДБЭ от атомарно-чистой поверхности Si(111)7×7. Держатель образца помещается на платформу, которая позволяет вращать образец для получения картин ДБЭ по разным азимутальным направлениям.

Преимущества и недостатки

Метод ДБЭ позволяет:

  1. качественно оценить структурное совершенство поверхности (от хорошо упорядоченной поверхности наблюдается картина ДБЭ с четкими яркими рефлексами и низким уровнем фона);
  2. определить обратную решетку поверхности из геометрии дифракционной картины;
  3. определить атомную структуру поверхности путём сравнения зависимостей интенсивности дифракционных рефлексов от угла падения первичного пучка электронов (кривые качания), рассчитанных для структурных моделей, с зависимостями, полученными в эксперименте;
  4. определить структуру трехмерных островков, сформировавшихся на поверхности;
  5. контролировать послойный рост эпитаксиальных плёнок с атомарной точностью по осцилляциям интенсивности дифракционного пучка.

Литература

  • Оура К., Лифшиц В. Г., Саранин А. А. и др. Введение в физику поверхности / Под ред. В. И. Сергиенко. — М.: Наука, 2006. — 490 с.
  • [1]
  • [2]
  • [3]

Примечания

  1. Ayahiko Ichimiya, Philip I. Cohen, Philip I. Cohen. Reflection High-Energy Electron Diffraction. — Cambridge University Press, 2004-12-13. — 370 с. — ISBN 978-0-521-45373-8.
  2. Z. Mitura, P. A. Maksym. Analysis of reflection high energy electron diffraction azimuthal plots // Physical Review Letters. — 1993-05-10. Т. 70, вып. 19. С. 2904–2907. doi:10.1103/PhysRevLett.70.2904.
  3. R. T Brewer, J. W Hartman, J. R Groves, P. N Arendt, P. C Yashar. Rheed in-plane rocking curve analysis of biaxially-textured polycrystalline MgO films on amorphous substrates grown by ion beam-assisted deposition (англ.) // Applied Surface Science. — 2001-05-15. Vol. 175-176. P. 691–696. ISSN 0169-4332. doi:10.1016/S0169-4332(01)00106-4.

Ссылки

This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.